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 Directed self-assembly enhanced EUV multi-patterning for low variability metal pitch scaling 定向自组装增强的低可变性金属间距EUV多图案化
相关领域
极紫外光刻
缩放比例
多重图案
材料科学
光电子学
纳米技术
抵抗
几何学
数学
图层（电子）
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期刊： 作者：G. Singh; Nityan Nair; Florian Gstrein; Richard E. Schenker 出版日期：2024-04-10 |
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