Standard-cell design architecture options below 5nm node: The ultimate scaling of FinFET and Nanosheet

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标题	Standard-cell design architecture options below 5nm node: The ultimate scaling of FinFET and Nanosheet
网址	https://doi.org/10.1117/12.2514569
DOI	10.1117/12.2514569 doi
其它	期刊：Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability XIII 作者：Syed Muhammad Yasser Sherazi; Miroslav Cupak; Pieter Weckx; Odysseas Zografos; Doyoung Jang; et al 出版日期：2019
求助人	哈基米在 2026-06-25 15:26:21 发布自广东，悬赏 20 积分
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