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标题
Inducing chemical selectivity in the atomic layer deposition (ALD) of oxide films via gas-phase silylation using N-(Trimethylsilyl)dimethylamine (TMSDMA)
网址
https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2026.167569
DOI
10.1016/j.apsusc.2026.167569 doi
其它 期刊：Applied Surface Science
作者：Mohammed Sadman Alam; Francisco Zaera
出版日期：2026
求助人
ADChem_JH 在 2026-06-23 07:37:04 发布自安徽，悬赏 10 积分
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  • 1个月前，求助关闭

    ADChem_JH ADChem_JH Lv51 求助人 关闭了本次求助。

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  • 1个月前

    ADChem_JH ADChem_JH Lv51 求助人 发起了本次求助

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