Hydrogen bond-mediated activation of HF in SiO2 thermal dry etching: A first-principles study of catalytic additives

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标题	Hydrogen bond-mediated activation of HF in SiO2 thermal dry etching: A first-principles study of catalytic additives
网址	https://doi.org/10.1116/6.0005142
DOI	10.1116/6.0005142 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Yihan Huang; Monica Sawkar Mathur 出版日期：2026-02-13
求助人	ADChem_JH 在 2026-09-20 13:49:04 发布自安徽，悬赏 10 积分
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