High-temperature atomic layer deposition of silicon oxide films using Tris(dimethylamino)silane and ozone

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标题	High-temperature atomic layer deposition of silicon oxide films using Tris(dimethylamino)silane and ozone
网址	http://dx.doi.org/10.1016/j.ceramint.2024.08.343
DOI	10.1016/j.ceramint.2024.08.343 doi
其它	期刊：Ceramics International 作者：Okhyeon Kim; Yoonho Choi; Changgyu Kim; Hye-Lee Kim; Won-Jun Lee 出版日期：2024-11-01
求助人	楼下太吵了在 2026-10-19 13:26:50 发布自天津，悬赏 10 积分
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