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A Study of Trimethylsilane (3MS) and Tetramethylsilane (4MS) Based α-SiCN:H/α-SiCO:H Diffusion Barrier Films |
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期刊:Materials 作者:Sheng-Wen Chen; Yu-Sheng Wang; Shao-Yu Hu; Wen-Hsi Lee; Chieh-Cheng Chi; et al 出版日期:2012-03-02 |
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(2025-6-4)