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 Reactive sputtering of SnS thin films using sulfur plasma and a metallic tin target: achieving stoichiometry and large grains 使用硫等离子体和金属锡靶反应溅射SnS薄膜：实现化学计量和大晶粒
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薄膜
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制作
分析化学（期刊）
冶金
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期刊：arXiv (Cornell University) 作者：Daiki Motai; Issei Suzuki; Taichi Nogami; Takahisa Omata 出版日期：2025-02-26 |
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