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Time-gated optical spectroscopy of field-effect-stimulated recombination via interfacial point defects in fully processed silicon carbide power MOSFETs 全加工碳化硅功率MOSFET界面点缺陷场效应复合的时间门控光谱
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期刊:Physical Review Applied 作者:Maximilian W. Feil; Magdalena Weger; H. Reisinger; Thomas Aichinger; André Kabakow; et al 出版日期:2024-08-30 |
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