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标题
Defectivity modulation in EUV resists through advanced filtration technologies
通过先进的过滤技术实现EUV抗蚀剂中的缺陷调制
相关领域
极紫外光刻 抵抗 材料科学 平版印刷术 临界尺寸 薄脆饼 浸没式光刻 光电子学 纳米技术 光学 物理 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1117/12.2560144
DOI
10.1117/12.2560144 doi
其它 期刊：
作者：Lucia D’Urzo; Toru Umeda; Takehito Mizuno; Atsushi Hattori; Rao Varanasi; et al
出版日期：2020-03-23
求助人
今年不再改昵称了 在 2025-10-27 07:21:29 发布自浙江，悬赏 20 积分
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