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  Progress in the development and understanding of advanced low k and ultralow k dielectrics for very large-scale integrated interconnects—State of the art 相关领域
互连
电介质
材料科学
电容
节点（物理）
集成电路
光电子学
超大规模集成
缩放比例
制作
工程物理
计算机科学
嵌入式系统
工程类
物理
电信
量子力学
结构工程
医学
数学
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电极
替代医学
几何学
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期刊：APPLIED PHYSICS REVIEWS 作者：Alfred Grill; Stephen M. Gates; Todd E. Ryan; Son V. Nguyen; Deepika Priyadarshini 出版日期：2014-02-26 |
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