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 Choice of metal as gate electrode of thin-film transistor with high-k gate dielectric 高k栅介质薄膜晶体管栅电极金属的选择
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期刊：IEEE Electron Device Letters 作者：Hao Sun; Yu Heng Deng; Qing He Wang; P. T. Lai 出版日期：2024-01-01 |
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