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 Cryogenic atomic layer etching of SiO2 using CH2F2/Ar plasma for improved process window for nanoscale fabrication 相关领域
制作
蚀刻（微加工）
材料科学
X射线光电子能谱
感应耦合等离子体
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图层（电子）
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反应离子刻蚀
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期刊：Applied Surface Science 作者：Ji Hwan Kim; Jae Hyeon Kim; Gwang Ho Lee; Yu Jin Heo; Gilgueng Hwang; et al 出版日期：2025-10-31 |
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