Electrical Conduction Mechanisms in Metal–Insulator–Metal (MIM) Structure with TiO x N y Thin Films Deposited with Different O/N Ratios

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标题	Electrical Conduction Mechanisms in Metal–Insulator–Metal (MIM) Structure with TiO x N y Thin Films Deposited with Different O/N Ratios 相关领域材料科学薄膜分析化学（期刊）欧姆接触锡钛电介质氮化钛溅射溅射沉积化学纳米技术光电子学氮化物冶金图层（电子）色谱法
网址	https://doi.org/10.1007/s11664-014-3470-1
DOI	10.1007/s11664-014-3470-1 doi
其它	期刊：Journal of Electronic Materials 作者：Juliano Libardi; K. G. Grigorov; R.S. Moraes; Marciel Guerino; Argemiro Soares da Silva Sobrinho; et al 出版日期：2014-11-19
求助人	Lijia_YAO 在 2026-01-31 14:07:18 发布自安徽，悬赏 10 积分
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