Electrical Conduction Mechanisms in Metal–Insulator–Metal (MIM) Structure with TiO x N y Thin Films Deposited with Different O/N Ratios

材料科学 薄膜 分析化学(期刊) 欧姆接触 电介质 氮化钛 溅射 溅射沉积 化学 纳米技术 光电子学 氮化物 冶金 图层(电子) 色谱法
作者
Juliano Libardi,K. G. Grigorov,R.S. Moraes,Marciel Guerino,Argemiro Soares da Silva Sobrinho,M. Massi
出处
期刊:Journal of Electronic Materials [Springer Science+Business Media]
卷期号:44 (1): 103-109 被引量:10
标识
DOI:10.1007/s11664-014-3470-1
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