Effect of Molecular Structure on Depth Profile of Acid Generator Distribution in Chemically Amplified Resist Films

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标题	Effect of Molecular Structure on Depth Profile of Acid Generator Distribution in Chemically Amplified Resist Films 相关领域抵抗极紫外光刻聚合物极端紫外线发电机（电路理论）材料科学光刻胶光刻化学化学工程光学纳米技术复合材料激光器功率（物理）物理工程类图层（电子）量子力学
网址	https://doi.org/10.1143/jjap.48.06fc03
DOI	10.1143/jjap.48.06fc03 doi
其它	期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Takehiro Fukuyama; Takahiro Kozawa; Kazumasa Okamoto; Seiichi Tagawa; Makiko Irie; et al 出版日期：2009-06-01
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