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 Improvement of deposition characteristics of silicon oxide layers using argon-based atmospheric-pressure very high-frequency plasma 氩基大气压甚高频等离子体对氧化硅沉积特性的改善
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期刊：Journal of Applied Physics 作者：Hiroaki Kakiuchi; Hiromasa Ohmi; Seiya Takeda; Kiyoshi Yasutake 出版日期：2022-09-14 |
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