Deep GaN etching by inductively coupled plasma and induced surface defects - 科研通

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标题	Deep GaN etching by inductively coupled plasma and induced surface defects
网址	https://doi.org/10.1116/1.3478674
DOI	10.1116/1.3478674 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 作者：J. Ladroue; A. Meritan; M. Boufnichel; P. Lefaucheux; P. Ranson; R. Dussart 出版日期：2010
求助人	晶镓万岁在 2026-03-01 13:24:36 发布自山东，悬赏 10 积分
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