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 Thermal Design of a Schiff Base Cobalt(II) Precursor: Thermal Stability, Volatility, and Thin Film Deposition of Nanocrystalline Co 3 O 4 by Plasma‐Assisted MOCVD 相关领域
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期刊：Applied Organometallic Chemistry 作者：A. Roniboss; D. Malathy; G. Boopathy; Dongjin Choi; T. U. Jeevitha 出版日期：2026-05-28 |
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