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Low-Temperature NiSi Formation via Microwave Annealing for Stable Metal-Induced Lateral Crystallization in 3D NAND Flash Memory
相关领域
退火（玻璃） 材料科学 结晶 闪存 闪光灯（摄影） 与非门 光电子学 微波食品加热 金属 逻辑门 电子工程 冶金 计算机科学 化学工程 计算机硬件 光学 电信 物理 工程类
网址
http://dx.doi.org/10.23919/vlsitechnologyandcir65189.2025.11...
DOI
10.23919/vlsitechnologyandcir65189.2025.11075197 doi
其它 期刊：2025 Symposium on VLSI Technology and Circuits (VLSI Technology and Circuits)
作者：Ohhyuk Kwon; Sunhyeong Lee; Jongseon Seo; Geonhui Han; Dongmin Kim; et al
出版日期：2025-06-08
求助人
ADChem_JH 在 2026-07-15 08:58:32 发布自安徽，悬赏 10 积分
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