Dry Etching of SiO2Thin Films with Perfluoropropenoxide–O2and Perfluoropropene–O2Plasmas

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标题	Dry Etching of SiO2Thin Films with Perfluoropropenoxide–O2and Perfluoropropene–O2Plasmas 全氟丙烯-O2和全氟丙烯-O2等离子体干法刻蚀SiO2薄膜
网址	https://doi.org/10.1143/JJAP.41.6287
DOI	10.1143/JJAP.41.6287 doi
其它	期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Francesco Fracassi; Riccardo D'Agostino; Antonella Fornelli; Tatsuru Shirafuji 出版日期：2002
求助人	爱咋咋滴在 2025-02-17 01:04:51 发布自上海，悬赏 10 积分
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