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标题
Time-Dependent Degradation Mechanism of 1.2 kV SiC MOSFET Under Long-Term High-Temperature Gate Bias Stress
相关领域
碳化硅 期限（时间） 物理 电气工程 材料科学 量子力学 工程类 冶金
网址
https://doi.org/10.1109/ted.2022.3213774
DOI
10.1109/ted.2022.3213774 doi
其它 期刊：IEEE Transactions on Electron Devices
作者：Yutong Shen; Zhiyuan He; Yijun Shi; Hao Niu; Yuan Chen; et al
出版日期：2022-11-03
求助人
以张之姓 在 2026-10-26 10:01:48 发布自中国，悬赏 10 积分
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