Plasma etching of the trench pattern with high aspect ratio mask under ion tilting

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标题	Plasma etching of the trench pattern with high aspect ratio mask under ion tilting
网址	http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2022.153462
DOI	10.1016/j.apsusc.2022.153462 doi
其它	期刊：Applied Surface Science 作者：Min Young Yoon; H.J. Yeom; Jung Hyung Kim; Jong-Ryul Jeong; Hyo-Chang Lee 出版日期：2022-09-01
求助人	甜甜钢铁侠在 2026-09-22 20:57:36 发布自安徽，悬赏 10 积分
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