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 Area-selective plasma-enhanced atomic layer etching (PE-ALE) of silicon dioxide using a silane coupling agent 相关领域
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Airah P. Osonio; Takayoshi Tsutsumi; Yoshinari Oda; Bablu Mukherjee; Ranjit R. Borude; et al 出版日期：2022-10-31 |
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