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标题
Nanoimprint system development and status for high volume semiconductor manufacturing
用于大批量半导体制造的纳米压印系统的发展和现状
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抵抗 德拉姆 平版印刷术 覆盖 纳米压印光刻 半导体器件制造 材料科学 计算机科学 薄脆饼 闪光灯(摄影) 光刻 多重图案 浸没式光刻 纳米技术 基质(水族馆) 光电子学 制作 光学 医学 替代医学 物理 图层(电子) 病理 程序设计语言 海洋学 地质学
网址
DOI
10.1117/12.2087017 doi
其它 期刊:Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE
作者:Hiroaki Takeishi; S. V. Sreenivasan
出版日期:2015-03-19
求助人
火火 在 2025-08-19 10:12:03 发布自印度,悬赏 20 积分
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