7.4 nm linewidth Pt nanowires by electron-beam lithography using non-chemically amplified positive-tone resist and post-exposure bake

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标题	7.4 nm linewidth Pt nanowires by electron-beam lithography using non-chemically amplified positive-tone resist and post-exposure bake 相关领域抵抗激光线宽电子束光刻纳米线平版印刷术材料科学阴极射线语调（文学）光电子学纳米技术电子光学物理激光器图层（电子）文学类艺术量子力学
网址	https://doi.org/10.35848/1347-4065/ad369e
DOI	10.35848/1347-4065/ad369e doi
其它	期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Ryo Toyama; Yutaka Majima 出版日期：2024-03-21
求助人	JJJJJJJJJ 在 2026-01-05 09:59:28 发布自海南，悬赏 10 积分
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