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标题
Effect of the RF bias on the plasma density in an argon inductively coupled plasma
射频偏压对氩电感耦合等离子体密度的影响
相关领域
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网址
https://doi.org/10.1063/5.0015555
DOI
10.1063/5.0015555 doi
其它 期刊：Physics of Plasmas
作者：Ho-Won Lee; Kyung-Hyun Kim; Jong In Seo; Chin‐Wook Chung
出版日期：2020-09-01
求助人
一定长 在 2025-12-21 15:11:03 发布自辽宁，悬赏 10 积分
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