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 Tin‐Oxo Nanocluster Extreme UV Photoresists Equipped with Chemical Features for Atmospheric Stability and High EUV Sensitivity 具有大气稳定性和高EUV灵敏度的化学特征的TiN-oxo纳米团簇极紫外光致抗蚀剂
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期刊：Advanced Functional Materials 作者：Yejin Ku; Gayoung Kim; Minseung Kim; Jin‐Kyun Lee; Jiho Kim; et al 出版日期：2025-11-26 |
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