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Optimum mask and source patterns to print a given shape |
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| DOI |
10.1117/1.1448500
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期刊:Journal of Micro-nanolithography Mems and Moems 作者:A. Rosenbluth; S. Bukofsky; C. Fonseca; M. Hibbs; K. Lai; et al 出版日期:2002-04-01 |
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(2025-6-4)