Application field expansion of the multi-beam mask writer: MBM-4000 for high-NA EUV and MBM-2000C for mature node

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标题	Application field expansion of the multi-beam mask writer: MBM-4000 for high-NA EUV and MBM-2000C for mature node
网址	http://dx.doi.org/10.1117/12.3071338
DOI	10.1117/12.3071338 doi
其它	期刊：Photomask Japan 2025: XXXI Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology 作者：Yuji Fujiwara; Hiroshi Matsumoto; Jumpei Yasuda; Kenichi Yasui; Masashi Uchiya; et al 出版日期：2025-07-21
求助人	追寻的藏今在 2026-08-11 18:29:25 发布自湖南，悬赏 20 积分
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