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 A study of the structure of (HfO2)x(Al2O3)1−x/Si films by X-ray photoelectron spectroscopy （HfO2）x（Al2O3）1-x/Si薄膜结构的X射线光电子能谱研究
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期刊：Journal of Structural Chemistry 作者：V. V. Kaichev; Yu. V. Dubinin; Tamara P. Smirnova; M. S. Lebedev 出版日期：2011-07-29 |
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