The Effect of Ion Implantation on Carbon Diffusion Through Si/SiOx Layer

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标题	The Effect of Ion Implantation on Carbon Diffusion Through Si/SiOx Layer 离子注入对碳通过Si/SiOx层扩散的影响相关领域离子注入材料科学扩散图层（电子）碳纤维离子光电子学硅纳米技术化学复合材料物理复合数热力学有机化学
网址	https://doi.org/10.1109/iemt61324.2024.10875198
DOI	10.1109/iemt61324.2024.10875198 doi
其它	期刊：作者：Phillip K. Poon; Tatt Wai Wan; Chan Lik Tan; Kuan Yew Cheong 出版日期：2024-10-16
求助人	李庆在 2025-08-24 09:54:25 发布自上海，悬赏 10 积分
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