In vacuo studies on reaction mechanisms in ALD processes of ruthenium and platinum films

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标题	In vacuo studies on reaction mechanisms in ALD processes of ruthenium and platinum films
网址	https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2023.159015
DOI	10.1016/j.apsusc.2023.159015 doi
其它	期刊：Applied Surface Science 作者：Heta-Elisa Nieminen; Matti Putkonen; Mikko Ritala 出版日期：2024
求助人	Wu 在 2026-04-14 16:52:12 发布自安徽，悬赏 10 积分
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