Methods of deposition of hydrogenated amorphous silicon for device applications

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标题	书籍（章节） Methods of deposition of hydrogenated amorphous silicon for device applications 用于器件应用的氢化非晶硅的沉积方法相关领域等离子体增强化学气相沉积材料科学非晶硅化学气相沉积沉积（地质）等离子体硅无定形固体光电子学等离子体处理纳米技术化学工程复合材料化学晶体硅工程类结晶学古生物学物理生物量子力学沉积物
网址	https://doi.org/10.1016/b978-012512908-4/50004-7
DOI	10.1016/b978-012512908-4/50004-7 doi
其它	期刊：Elsevier eBooks 作者：Wilfried van Sark 出版日期：2002-01-01
求助人	小星星在 2025-04-28 17:24:43 发布自湖南，悬赏 30 积分
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