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 DTCO optimizes critical path nets to improve chip performance with timing-aware OPC in deep ultraviolet lithography DTCO利用时序感知OPC优化关键路径网以提高深紫外光刻芯片性能
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期刊：Applied Optics 作者：Shuang Zhang; Libin Zhang; Cuimin Ding; Wenwen Wang; Hongru Zhang; et al 出版日期：2023-08-31 |
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