Surface Chemical Reactions of Etch Stop Prevention in Plasma-Enhanced Atomic Layer Etching of Silicon Nitride

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标题	专利、报告等 Surface Chemical Reactions of Etch Stop Prevention in Plasma-Enhanced Atomic Layer Etching of Silicon Nitride
网址	https://doi.org/10.2139/ssrn.4533359
DOI	10.2139/ssrn.4533359 doi
其它	期刊：作者：Jomar Unico Tercero; Akiko Hirata; Michiro Isobe; Kazuhiro Karahashi; Masanaga Fukasawa; et al 出版日期：2023-08-07
求助人	Atlantis 在 2026-07-26 19:51:46 发布自上海，悬赏 10 积分
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