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 Influence of deep reactive ion etching process parameters on etch selectivity and anisotropy in stacked silicon substrates for fabrication of comb-type MEMS capacitive accelerometer 相关领域
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期刊：Journal of Materials Science: Materials in Electronics 作者：Shankar Dutta; Isha Yadav; Praveen Kumar; Ramjay Pal 出版日期：2023-12-01 |
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