Modeling of microtrenching and bowing effects in nanoscale Si inductively coupled plasma etching process - 科研通

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标题	Modeling of microtrenching and bowing effects in nanoscale Si inductively coupled plasma etching process 相关领域蚀刻（微加工）鞠躬等离子体刻蚀感应耦合等离子体材料科学纳米尺度仿真反应离子刻蚀等离子体光电子学干法蚀刻蒙特卡罗方法纳米技术扫描电子显微镜复合材料物理统计量子力学经济增长哲学数学经济神学图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1116/6.0003032
DOI	10.1116/6.0003032 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Ziyi Hu; Hua Shao; Junjie Li; Panpan Lai; Wenrui Wang; et al 出版日期：2023-11-08
求助人	贤惠的如松在 2025-11-03 10:55:59 发布自上海，悬赏 10 积分
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