Polymer-based semiconductor wafer cleaning: The roles of organic acid, processing solvent, and polymer hydrophobicity

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标题	Polymer-based semiconductor wafer cleaning: The roles of organic acid, processing solvent, and polymer hydrophobicity 聚合物基半导体晶片清洗：有机酸、加工溶剂和聚合物疏水性的作用相关领域聚合物薄脆饼材料科学纳米颗粒溶剂化学工程表面能半导体纳米技术湿法清洗有机化学化学复合材料光电子学工程类
网址	https://doi.org/10.1016/j.cej.2023.144102
DOI	10.1016/j.cej.2023.144102 doi
其它	期刊：Chemical Engineering Journal 作者：Seong Hoon Yu; Hayoung Jeon; Hyunki Ko; Hoon Ji; Soyeon Jeon; et al 出版日期：2023-06-13
求助人	认真子默在 2025-09-08 09:03:30 发布自山东，悬赏 10 积分
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