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 Study of As-Deposited and Annealed Atomic Layer Deposited Hafnium Silicate Films 原子层沉积硅酸铪薄膜的沉积和退火研究
相关领域
铪
硅酸盐
图层（电子）
材料科学
原子层沉积
退火（玻璃）
冶金
化学工程
纳米技术
锆
工程类
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期刊： 作者：Meena Rajachidambaram; Heon‐Jin Choi; B. M. Korevaar; Hyunjun Sim; Justin Clements 出版日期：2025-05-05 |
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