标题 |
![]() HfO2薄膜的厚度相关相变和电阻开关性能
相关领域
材料科学
电阻随机存取存储器
薄膜
正交晶系
粒度
X射线光电子能谱
基质(水族馆)
单斜晶系
相(物质)
分析化学(期刊)
带隙
非阻塞I/O
无定形固体
光电子学
纳米技术
电极
复合材料
结晶学
晶体结构
核磁共振
化学
地质学
物理化学
催化作用
物理
有机化学
海洋学
生物化学
色谱法
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Materials Chemistry and Physics 作者:Taranga Dehury; Sandeep Kumar; Akhoury Sudhir Kumar Sinha; Mukul Gupta; Chandana Rath 出版日期:2024-03-01 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|