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标题
[求助补充材料] Monolayer WSi2N4: A promising channel material for sub-5-nm-gate homogeneous CMOS devices
单层WSi2N4：一种用于亚5-nm栅均匀CMOS器件的有前途的沟道材料
相关领域
类型（生物学） 物理 CMOS芯片 材料科学 光电子学 生态学 生物
网址
https://doi.org/10.1103/physrevapplied.20.064044
DOI
10.1103/physrevapplied.20.064044 doi
其它 期刊：Physical review applied
作者：英根 李; Chunyu Qi; Xun Zhou; Linqiang Xu; Qiuhui Li; et al
出版日期：2023-12-26
求助人
zwh 在 2025-12-06 16:29:31 发布自山东，悬赏 20 积分
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