The Etching Mechanisms of SiO2 in Hydrofluoric Acid

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标题	The Etching Mechanisms of SiO2 in Hydrofluoric Acid 相关领域蚀刻（微加工）氢氟酸二聚体机制（生物学）功能（生物学）酸蚀反应离子刻蚀化学材料科学化学工程纳米技术无机化学复合材料物理有机化学工程类量子力学生物图层（电子）进化生物学
网址	https://doi.org/10.1149/1.2059243
DOI	10.1149/1.2059243 doi
其它	期刊：Journal of The Electrochemical Society 作者：Steven Verhaverbeke; Ivo Teerlinck; Chris Vinckier; G. Stevens; R. Cartuyvels; et al 出版日期：1994-10-01
求助人	大力的向南在 2025-10-07 16:33:12 发布自辽宁，悬赏 10 积分
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