Grouping design method dependence on an illumination system and large off-axis distance for an anamorphic extreme ultraviolet lithography objective

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标题	Grouping design method dependence on an illumination system and large off-axis distance for an anamorphic extreme ultraviolet lithography objective
网址	https://doi.org/10.1364/ao.446729
DOI	10.1364/ao.446729 doi
其它	期刊：Applied Optics 作者：Yan Xu; Yanqiu Li; lihui liu; Ke Liu 出版日期：2022-01-04
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