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标题
High-Rate Sputter Etching of Substrates Using Hollow-Cathode Arc Discharge Sources
网址
https://doi.org/10.14332/svc22.proc.0031
DOI
10.14332/svc22.proc.0031 doi
其它 期刊：Annual Technical Conference Proceedings
作者：Jens-Peter Heinß
出版日期：2022-11-19
求助人
圆圆 在 2026-09-04 15:07:05 发布自辽宁，悬赏 10 积分
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