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Ultra-high aspect ratio Si nanowires fabricated with plasma etching: plasma processing, mechanical stability analysis against adhesion and capillary forces and oleophobicity
网址
http://dx.doi.org/10.1088/0957-4484/25/3/035302
DOI
10.1088/0957-4484/25/3/035302 doi
其它 期刊：Nanotechnology
作者：A Zeniou; K Ellinas; A Olziersky; E Gogolides
出版日期：2013-12-17
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