| 标题 |
 Atomic Layer Etching Applications in Nano-Semiconductor Device Fabrication 原子层刻蚀在纳米半导体器件制造中的应用
相关领域
材料科学
原子层沉积
半导体
蚀刻（微加工）
纳米技术
半导体器件制造
光电子学
图层（电子）
反应离子刻蚀
干法蚀刻
薄脆饼
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Electronic Materials Letters 作者：Dae Sik Kim; Jae Bin Kim; Da Won Ahn; Jin Hyun Choe; Jin Seok Kim; et al 出版日期：2023-03-11 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
SYLH
yznfly
ll
LaTeXer
iNk
YamDaamCaa
请叫我风吹麦浪
柯一一
昏睡的蟠桃
沐青
酷酷的冰真
Rondab
eric888
wy.he
热心市民小红花
风清扬
yydragen
yar
彭于彦祖
CAOHOU
皖公网安备34019202002308
