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 Investigation of the etching mechanism of silicon nitride by CF4/O2/Ar gas mixture plasma in ICP ICP中CF4/O2/Ar气体混合等离子体刻蚀氮化硅机理的研究
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期刊：Vacuum 作者：Liyue Gong; Qian Luo; Ziyan Tan; Chan Li; Na Li; et al 出版日期：2024-12-01 |
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