Thermally Activated Homologous Defect Engineering for Ultra-Stable Ultrahigh-Nickel Cathodes via Self-Driven Short-Range Disorder

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标题	Thermally Activated Homologous Defect Engineering for Ultra-Stable Ultrahigh-Nickel Cathodes via Self-Driven Short-Range Disorder 基于自驱动短程无序的超稳定超高镍阴极热激活同源缺陷工程相关领域材料科学阴极制作化学工程纳米技术光电子学电极复合材料同源染色体降级（电信）
网址	https://doi.org/10.1016/j.ensm.2025.104750
DOI	10.1016/j.ensm.2025.104750 doi
其它	期刊：Energy Storage Materials 作者：Sida Huo; Ben Su; Lei Chai; Yue Wang; Li Wang; et al 出版日期：2025-11-01
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