| 标题 |
Assessment of stress contributions in GaN high electron mobility transistors of differing substrates using Raman spectroscopy 用拉曼光谱评估不同衬底GaN高电子迁移率晶体管中的应力贡献
相关领域
材料科学
热弹性阻尼
晶体管
压力(语言学)
光电子学
压电
拉曼光谱
碳化硅
硅
氮化镓
高电子迁移率晶体管
残余应力
复合材料
光学
电气工程
电压
物理
气象学
哲学
工程类
热的
图层(电子)
语言学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Journal of Applied Physics 作者:Thomas E. Beechem; Adam Christensen; D. S. Green; Samuel Graham 出版日期:2009-12-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|