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 Ge FinFET CMOS Inverters with Improved Channel Surface Roughness by Using In-situ ALD Digital O<inf>3</inf> Treatment 相关领域
CMOS芯片
材料科学
表面粗糙度
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期刊： 作者：Meng-Shin Yeh; G.-L. Luo; F.-J. Hou; Peng-Cheng Sung; C.-J. Wang; et al 出版日期：2018-03-01 |
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